
芯片去层(Delayer)技术通过物理或化学的方法去除芯片上的多层金属和介质结构,使得芯片内部的结构和器件更加可见和可分析。这有助于研究人员深入了解芯片的内部构造、电路设计和器件布局,以及可能存在的缺陷和故障。
CTI华测检测可帮助客户深入了解芯片的内部结构和性能,并为产品改进提供有力支持。


砷化镓铟微光显微镜侦测(InGaAs)
CTI华测检测提供个性化的砷化镓铟微光显微镜服务,根据您的具体研究需求,为您量身定制解决方案。
雷射光阻值变化侦测(OBIRCH)
适用于不同类型的集成电路和芯片检测,满足不同客户的多样化需求。
热辐射故障定位显微镜(Thermal EMMI)
高效、可靠的故障检测技术,能够准确快速地定位电子元器件中的故障点。
芯片Laser/化学开盖分析(Decap)
CTI华测检测拥有完善的芯片、半导体器件失效分析工具,可为您提供完善的开封及失效分析服务,
传统截面研磨分析(Cross-Section)
高精度、全面可靠的分析技术,为半导体领域的质量控制、失效分析和研发测试提供有力支持。
离子束截面研磨/抛光分析服务(CP)
以优质的服务、先进的技术为客户提供离子束截面研磨/抛光分析服务(CP),帮助客户解决科研和产品开发中的难题